公開(公告)號
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CN1671684A
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公開(公告)日
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2005.09.21
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申請(專利)號
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CN03818267.X
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申請日期
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2003.07.18
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專利名稱
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新苯并間二氧雜環(huán)戊烯類
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主分類號
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C07D317/62
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分類號
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C07D317/62;C07D405/12;C07D317/54;C07D451/06;A61K31/36;//(C07D405/12,317∶00,213∶00)(C07D405/121,317∶00,214∶00)
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權
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2002.7.29 EP 02016831.6
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申請(專利權)人
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霍夫曼-拉羅奇有限公司
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發(fā)明(設計)人
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A·阿拉尼;K·貝萊切;W·古帕;W·哈普;D·庫貝;T·呂貝斯;J-M·普蘭凱爾;M·羅杰斯-埃文斯;G·施奈德;J·齊格;O·羅什
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地址
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瑞士巴塞爾
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頒證日
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國際申請
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PCT/EP2003/007890 2003.7.18
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進入國家日期
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2005.01.31
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專利代理機構
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中科專利商標代理有限責任公司
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代理人
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王旭
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國省代碼
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瑞士;CH
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主權項
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通式(I)的化合物及其藥物上可接受的鹽:其中:R1和R2獨立為未被取代的苯基,或獨立地被羥基、低級烷基、低級烷氧基、全氟-低級烷基、全氟-低級烷氧基、烷;⑶杌、硝基或鹵素單取代、二取代或三取代的苯基;或R1和R2與它們所連接的碳原子一起形成10′,11′-二氫-2,5’-[5H]二苯并-[a,d]環(huán)庚烯殘基;R3和R4獨立為氫、鹵素、羥基、低級烷基、低級烷氧基、全氟-低級烷基、烷;蚯杌籖5為氫、低級烷基、低級烷基磺;h(huán)烷基低級烷基或羥基-低級烷基;R6為Y-R8、低級烷基、低級烷氧基、羥基-低級烷基、低級烷氧基-低級烷基、低級烷氨基羰基-低級烷基、雜環(huán)基、環(huán)烷基、苯基或苯基低級烷基,其中所述的苯基部分可以任選獨立地被低級烷基、低級烷氧基、鹵素、全氟-低級烷基、羥基、烷;蚯杌鶈稳〈、二取代或三取代;或當X為-C(O)-或-SO2-時,R6為氫;或R5和R6與它們所連接的氮原子一起形成4-、5-、6-或7-元單環(huán)或8-、9-、10-或12-元雙環(huán)飽和或不飽和雜環(huán),其可以任選含有一個或兩個獨立地選自O、N和S的其它雜原子,所述的雜環(huán)任選獨立地被低級烷基、低級烷氧羰基、羥基低級烷基、低級烷氧基-低級烷基、二-低級烷基氨基甲酰基、氨基甲;、低級烷基羰基氨基、氧代、二氧代、烷;被图壨榛、羥基、低級烷氧基、鹵素、全氟-低級烷基、氰基、雜芳基或被苯基或苯基低級烷基單取代、二取代或三取代,其中所述的苯基部分可以任選獨立地被低級烷基、低級烷氧基、鹵素、全氟-低級烷基、羥基、烷;蚯杌鶈稳〈、二取代或三取代;R7為氫、鹵素、低級烷基或氰基;R8為苯基、環(huán)烷基、雜環(huán)基或雜芳基;X為單鍵、-CH2-、-C(O)-、-SO2-或-SO2NH-;Y為-CH2-、-C(O)-、-NH-或-SO2-。
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摘要
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本發(fā)明涉及通式(I)的化合物及其藥物上可接受的鹽,其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和X如本說明書和權利要求中所定義。這些化合物用于治療和/或預防與調節(jié)CB1受體相關的疾病。
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國際公布
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WO2004/013120 英 2004.2.12
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