| 公開(公告)號 | CN1277819C |
| 公開(公告)日 | 2006.10.04 |
| 申請(專利)號 | CN03801808.X |
| 申請日期 | 2003.02.17 |
| 專利名稱 | 氮雜環(huán)丁酮化合物的制備方法 |
| 主分類號 | C07D205/08(2006.01)I |
| 分類號 | C07D205/08(2006.01)I;C07F7/18(2006.01)I;B01J27/125(2006.01)I;B01J27/135(2006.01)I;B01J31/12(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權 | 2002.3.25 JP 82560/2002 |
| 申請(專利權)人 | 高砂香料工業(yè)株式會社 |
| 發(fā)明(設計)人 | 松本崇司;村山俊幸;諸井隆 |
| 地址 | 日本東京都 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2003-02-17 PCT/JP2003/001615 |
| 進入國家日期 | 2004.06.18 |
| 專利代理機構 | 中原信達知識產權代理有限責任公司 |
| 代理人 | 樊衛(wèi)民;楊 青 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權項 | 下式[1]表示的化合物的制備方法，式中，R1、R2、R3和X與下式中相同，其特征在于，使下式[2]表示的化合物與下式[3]表示的化合物在下面通式[4]表示的化合物及堿的存在下發(fā)生反應，式中R1表示氫原子或羥基保護基，L表示離去基團，式中，R2表示氫原子或碳數為1～4的低級烷基，R3表示碳數為1～12的烷基、碳數為2～5的鏈烯基、未取代的或者可以由選自碳數為1～4的低級烷基、碳數為1～4的低級烷氧基、硝基和鹵素原子的取代基取代的苯基、未取代的或者可以由選自碳數為1～4的低級烷基、碳數為1～4的低級烷氧基、硝基和鹵素原子的取代基取代的碳數為7～15的芳烷基、或者未取代的或者可以由選自碳數1～4的烷基的取代基取代的5～8員環(huán)的脂環(huán)基，X表示氧原子或硫原子，MYn(R4)m(4)式中，M表示金屬原子，選自IUPAC周期表第IVB、IVA、IIIA、IIIB、VIIIB和IIB族，Y表示鹵素原子，R4表示碳數為1～4的低級烷基、碳數為1～4的低級烷氧基、未取代的或者可以由選自碳數為1～4的低級烷基、碳數為1～4的低級烷氧基和鹵素原子的取代基取代的苯氧基、烷基磺酰二氧基、芳磺酰二氧基、烷基磺酰氧基、芳磺酰氧基、環(huán)戊二烯基、或者五甲基環(huán)戊二烯基，n和m為0～4的整數，并且n+m為M的原子價。 |
| 摘要 | 本發(fā)明的目的是提供解決以往的問題，可以在溫和條件下、工序少且收率好、選擇性地得到所需的在1′-β-位具有甲基的碳青霉烯類抗菌劑的合成中間體的方法。本發(fā)明涉及具有1′-β構型的氮雜環(huán)丁酮化合物的制備方法，其特征在于，在特定的金屬化合物和堿的存在下，進行下式表示的反應(式中，R1表示氫原子或羥基保護基，L表示離去基團，R2表示氫原子或低級烷基，R3表示烷基、芳烷基等，X表示氧原子或硫原子)。 |
| 國際公布 | 2003-10-02 WO2003/080571 日 |
