公開(公告)號
|
CN1326865C
|
公開(公告)日
|
2007.07.18
|
申請(專利)號
|
CN98802378.4
|
申請日期
|
1998.02.03
|
專利名稱
|
3"-N-氧化物,3"-N-二甲胺,9-肟紅霉素A衍生物
|
主分類號
|
C07H17/08(2006.01)I
|
分類號
|
C07H17/08(2006.01)I;A61K31/70(2006.01)I;A61P31/00(2006.01)I
|
分案原申請?zhí)? |
|
優(yōu)先權(quán)
|
1997.2.13 US 08/800009
|
申請(專利權(quán))人
|
艾博特公司
|
發(fā)明(設計)人
|
顧宜音;D·A·里萊
|
地址
|
美國伊利諾伊州
|
頒證日
|
|
國際申請
|
1998-02-03 PCT/US1998/001929
|
進入國家日期
|
1999.08.09
|
專利代理機構(gòu)
|
中國專利代理(香港)有限公司
|
代理人
|
譚明勝
|
國省代碼
|
美國;US
|
主權(quán)項
|
具有下式的化合物:其中R1和R2獨立為氫或羥基-保護基團;R3為低級烷基;Y選自:(a)具有式:N-0-R4的肟,其中R4選自:低級鏈烯基;烷基芳基;取代的烷基芳基;芳基(低級烷基),或取代的芳基(低級烷基);或(b)具有下式的肟:其中R5選自:低級烷基,環(huán)烷基,苯基,芳基(低級烷基);或R5和R6或R5和R7與其連接的原子一起形成含有一個氧原子的5-至7-元環(huán);R6選自:低級烷基,低級烷氧基甲基或R6和R5與其連接的原子一起形成含有一個氧原子的5-至7-元環(huán),或R7和R6與其連接的原子一起形成的5-至7-元環(huán)烷基;及R7選自:氫原子,低級烷基,苯基,芳基(低級烷基)基團,或R7和R5與其連接的原子一起形成含有一個氧原子的5-至7-元環(huán);或R7和R6與其連接的原子一起形成的5-至7-元環(huán)烷基;條件是,只有一對取代基R5和R6、R5和R7或R6和R7與它們連接的原子一起形成如上定義的環(huán);及Z為氫、羥基或保護的羥基;其中術語“烷基”指含有1-10個碳原子的飽和直鏈或支鏈烴基;術語“低級烷基”指具有1-6個碳原子的烷基;術語“芳基(低級烷基)”指具有連接1-3個芳香烴基的低級烷基,所述“芳基(低級烷基)”選自芐基、二苯基芐基、三苯甲和苯乙基;術語“低級烷氧基”指通過醚鍵連接所述分子其余部分的低級烷基;術語“環(huán)烷基”指環(huán)具有3-8個碳原子并任選由1-3個選自下列基團取代的飽和單環(huán)烴基:低級烷基、鹵代(低級烷基)、低級烷氧基、鹵素;術語“低級鏈烯基”指具有2-6個碳原子且至少具有一個碳-碳雙鍵的直鏈或支鏈的烴基;術語“烷基芳基”指具有連接于芳基的烷基取代基的芳基基團;術語“取代的烷基芳基”表示如上定義的烷基芳基基團,其由選自以下的取代基:硝基、烷基、氨基、鹵代和烷氧基取代;術語“取代的芳基(低級烷基)”指具有1-3個非氫環(huán)取代基的如上定義的芳基(低級烷基)殘基,每個取代基獨立選自鹵素、低級烷氧基、低級烷基、羥基-取代的低級烷基,及(低級烷基)氨基。
|
摘要
|
本發(fā)明涉及新的式(Ⅰ)的3’-N-O,9-O-肟保護的,6-O-烷基紅霉素衍生物,其制備方法。本發(fā)明也涉及通過在合適的條件下,除去3’-N-氧基團和9-O-肟保護基團并任選使2’-和4’-位的羥基基團去保護制備6-O-烷基紅霉素A的方法。
|
國際公布
|
1998-08-20 WO1998/035976 英
|